Others RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
2009.08.05 12:52
수고가 많으십니다.
저희 회사는 반도체, LCD장비 제작 회사들로 Motion Controller와 Servo ,Step Motor등을 공급하는 회사입니다.
업체 상담중에 문의사항이 있어서 조언을 구하고자 질문을 올려 드립니다.
Sputter 장비의 vacuum정도는 10 -3 torr, 공정온도는 약 100 도 정도입니다. Chamber내부에서 Motion을 구현 하고자 합니다. Chamber내부에 Vacuum용 모터를 사용하고자는데 RF 플라즈마에 의한 노이즈로 Motor 사용에 대한 부분을 우려하고 있습니다. 일반적으로 Chamber 외부로 Motion부분을 빼내어 메탈 벨로우즈를 이용한 방법으로 Motion을 사용한다고 하는데, Vacuum용 Motor를 RF 플라즈마 챔버내에서 사용하는 것이 가능한지 가능하다면 어떤 방법이 있는지 답변 부탁드립니다.
그럼 수고하십시요.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] | 75431 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19166 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56480 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67562 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 89369 |
| 88 | 플라즈마 코팅에 관하여 | 22026 |
| 87 | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 22116 |
| 86 | Peak RF Voltage의 의미 | 22433 |
| 85 | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22468 |
| 84 | pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] | 22514 |
| 83 | MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] | 22515 |
| 82 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22563 |
| 81 | [질문] Plasma density 측정 방법 [1] | 22574 |
| 80 | CCP/ICP , E/H mode | 22586 |
| 79 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22703 |
| 78 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22854 |
| 77 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 22870 |
| 76 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 22952 |
| 75 | No. of antenna coil turns for ICP | 22966 |
| 74 | DC glow discharge | 23102 |
| 73 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23158 |
| 72 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23181 |
| 71 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23218 |
| 70 | 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. | 23296 |
| 69 | Arcing | 23505 |