개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:57199 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76874
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20274
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92696
137 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 626
136 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 625
135 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 624
134 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 623
133 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 620
132 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 617
131 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 616
130 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 614
129 RF Sputtering Target Issue [2] file 613
128 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 612
127 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 611
126 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 608
125 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 600
124 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 599
123 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 598
122 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 594
121 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 593
120 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 590
119 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 588
118 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 586

Boards


XE Login