Sputtering RF Sputtering Target Issue [Sputtering]

2022.10.28 21:14

백지현 조회 수:741

안녕하세요 교수님. 이번에 새로이 RF 스퍼터를 사용하게 된 학생입니다. 

첨부한 이미지와 같이 현재 metal oxide 타겟을 이용하여 증착 후 타겟에 검은색 ring 모양의 contamination이 생기는 이슈가 있습니다.

서칭 결과 Magnetic feild로 인한 redeopsition으로 추청되는데 해당 현상이 맞는 것인 지와 현상을 해결하기 위한 방법(e.g. RF power 감소)을 여쭙고자 합니다.

아직 스퍼터를 사용한 지 얼마 되지 않아 많이 미숙하여 자체적인 판단이 어려워 도움을 요청드리는 바입니다.

날이 많이 추워졌는데 건강 조심하시고 좋은 하루 되시길 바랍니다!

 

 

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79667
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21360
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58154
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69730
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94657
164 Arcing과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [Self bias와 DC glow 방전] [1] 764
163 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 762
162 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [질소 플라즈마] [1] 762
161 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 755
160 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [Self bias] [1] 754
159 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 751
» RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 741
157 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating] [1] 741
156 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 740
155 RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화] [1] 728
154 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 724
153 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [데이터+플라즈마광학 모델] [1] 718
152 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어] [1] 705
151 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 701
150 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 698
149 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability] [1] file 690
148 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source] [1] file 689
147 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 684
146 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 673
145 프리쉬스에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion 및 collisionless sheath] [1] 670
쓰기
태그

Boards

XE Login