안녕하세요!

플라즈마를 좋아하고 공부하고 있는 디스플레이 엔지니어입니다!

 

OES를 스펙트럼 분석을 통해서 공정 개선을 해보고 싶습니다.

그이전에, OES를 통해서 공정중 막질 Uniformity를 개선한 사례가 있는지 궁금합니다.

 

혹시 조언을 얻을 수 있을까요??

감사합니다!!!

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78037
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20847
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93631
159 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 705
158 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 691
157 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 689
156 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 689
155 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 687
154 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher] [2] 683
153 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 680
152 RF Sputtering Target Issue [2] file 677
151 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 673
» OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 669
149 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 666
148 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 665
147 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 659
146 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 656
145 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 652
144 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 651
143 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 633
142 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 633
141 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 631
140 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 629

Boards


XE Login