kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
2009.11.17 16:06
안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다
a) the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.
b) the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV
Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76727 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20183 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
» | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68699 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92278 |
109 | sputter | 16845 |
108 | smsith chart 공식 유도하는 방법? | 19657 |
107 | Arcing | 23803 |
106 | 이온과 라디칼의 농도 | 26995 |
105 | PSM을 이용한 Radical측정 방법 | 17073 |
104 | 역 수소폭탄에 대하여... | 16009 |
103 | 대기압플라즈마 진단 | 21025 |
102 | Self Bias | 36382 |
101 | No. of antenna coil turns for ICP | 23096 |
100 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 23060 |
99 | CCP 에서 Area effect(면적) ? | 21385 |
98 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35910 |
97 | self Bias voltage | 24034 |
96 | manetically enhanced plasmas | 21657 |
95 | Splash 발생 및 감소 방안은 없는지요? | 18038 |
94 | 주변의 플라즈마에 대하여 | 18652 |
93 | 플라즈마진단법엔 어떤것이? | 18731 |
92 | 최적의 펌프는? | 18540 |
91 | plasma cleanning에 관하여.... | 20833 |
90 | ICP 식각에 대하여... | 16916 |