안녕하세요 저는 현재 PECVD 장비를 사용하는 연구원입니다.

 

어플라이드社의 PRODUCER-S 설비로 ACL 공정을 Set-up하고 있습니다.

 

Unif를 잡기위해서 압려과 RF Power를 건드려 가며 조정 중에 있는데

 

RF Ref가 어떤 조건에서는 높게 뜨고 어떤 조건에서는 낮게 뜨는데 어떤 조건이 영향을 미칠까요?

 

알려주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [250] 76379
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19968
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57055
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68517
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91226
90 plasma 공정 중 색변화 [1] 533
89 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 531
88 RF Sputtering Target Issue [2] file 526
87 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 526
86 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 522
85 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 513
84 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 513
» Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 501
82 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 496
81 self bias [1] 488
80 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 476
79 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 473
78 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 472
77 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 462
76 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 462
75 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 460
74 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 459
73 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 459
72 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 459
71 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 456

Boards


XE Login