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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[265]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20076 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57115 |
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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103 |
CCP 에서 Area effect(면적) ?
| 21361 |
102 |
47th American Vacuum Society International Symposium 2000
| 21423 |
101 |
ccp-icp
| 21424 |
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F/S (Faraday Shield)
| 21469 |
99 |
상압 플라즈마 관련 문의입니다.
[1] | 21510 |
98 |
대기압플라즈마를 이용한 세정장치
| 21536 |
97 |
스퍼터링시 시편두께와 박막두께
[1] | 21544 |
96 |
manetically enhanced plasmas
| 21650 |
95 |
glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압
| 21723 |
94 |
플라즈마내의 전자 속도
[1] | 21870 |
93 |
펄스바이어스 스퍼터링 답변
| 21929 |
92 |
remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다.
[1] | 21979 |
91 |
플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적
| 21992 |
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질문있습니다 교수님
[1] | 22002 |
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플라즈마 코팅에 관하여
| 22086 |
88 |
플라즈마의 발생과 ICP
| 22112 |
87 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 22229 |
86 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 22534 |
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MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22571 |
84 |
Peak RF Voltage의 의미
| 22576 |