안녕하세요 PECVD 설비를 맡고 있는 엔지니어입니다.

현업에 종사하고 있음에도 알기 어려운 것들을, 교수님을 통해 알아가며 업무에 정말 많은 도움이 됩니다, 감사드립니다.

 

이번에 드리고자 하는 질문은 Sheath에 걸리는 전압 및 전력에 대한 것 입니다. 

임피던스 매칭을 공부하며 파워는 저항에서만 소모되고 C나 L 같은 리엑턴스에서는 위상지연만 일어난다는 것을 알았습니다.

하지만 이해가 안가는 부분이 있습니다.

 

챔버를 임피던스로 표현할 땐, 플라즈마 Bulk는 R(저항)으로 표현되고, Sheath는 C(커패시터)로 표현할 수 있는데, 이 때 Power는 저항인 Plasma Bulk에서만 소비된다고 이해 했습니다.

그런데, Self Bias관련 자료에서는, Sheath에서 대부분의 전압강하가 일어나고, Bulk의 Potential은 일정하다고 되어있어 이해에 어려움이 있습니다.

즉, 등가회로로 표현할 땐 볼티지 드랍이 플라즈마 벌크에서 일어나는 자료와, Self Bias를 설명하는 자료에서는 Sheah에서 대부분 Voltage drop 이 일어난다고 하니 상충되는것으로 받아들여집니다.

 

이를 이해 하기위해 어떤 이론이 부족한지, 또는 잘못 알고 있는지를 모르겠어서, 다시 한번 질문 남기게 되었습니다.

귀한 시간 내주셔서 진심으로 감사드립니다..!

 

 

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102724
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24675
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61389
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73456
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105791
153 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 906
152 RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화] [1] 903
151 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [UV energy] [1] 881
150 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE] [1] 875
149 프리쉬스에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion 및 collisionless sheath] [1] 874
148 ICP 후 변색 질문 874
147 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별] [1] 871
146 Co-relation between RF Forward Power and Vpp [RF ground] [1] 871
145 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring] [1] file 868
144 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability] [1] file 868
143 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 856
142 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해] [1] 855
141 전쉬스에 대한 간단한 질문 [Debye length 및 sheath 형성] [1] 853
140 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계] [2] 848
139 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법] [1] 847
138 plasma striation 관련 문의 [Plasma striation] [1] file 846
137 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source] [1] file 843
136 PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙] [1] 841
135 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION 간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [플라즈마 충돌 반응] [1] 838
134 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [방전 기전] [1] 834

Boards


XE Login