안녕하세요 PECVD설비 다루는 현직 엔지니어 입니다.

 

Setup중 RPS를 쓰지 않아 RF Generator에서 3.5kW를 공급하는데 Shunt box 볼테이지와 주파수 및 클린 레시피도 바꾸어 봤는데 matcher 내부에 아킹이 발생하네요.

 

근데 이상한 점이 Process Run 중일 때는 Clean 에러가 뜨지만 제네레이터 초기화 후 메뉴얼로 RF Clean하면 잘 되는데 아킹 발생 이유를 알 수 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103346
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24717
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61534
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73521
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105953
154 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 920
153 RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화] [1] 906
152 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [UV energy] [1] 888
151 Co-relation between RF Forward Power and Vpp [RF ground] [1] 884
150 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE] [1] 881
149 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별] [1] 879
148 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring] [1] file 877
147 프리쉬스에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion 및 collisionless sheath] [1] 876
146 ICP 후 변색 질문 876
145 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability] [1] file 872
144 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해] [1] 865
143 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 864
142 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법] [1] 859
141 전쉬스에 대한 간단한 질문 [Debye length 및 sheath 형성] [1] 858
140 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION 간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [플라즈마 충돌 반응] [1] 855
139 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source] [1] file 854
138 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계] [2] 850
137 PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙] [1] 850
136 plasma striation 관련 문의 [Plasma striation] [1] file 850
135 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 843

Boards


XE Login