공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[269]
| 76736 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20206 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57168 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68702 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 92280 |
89 |
remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다.
[1] | 22122 |
88 |
플라즈마의 발생과 ICP
| 22137 |
87 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 22239 |
86 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 22541 |
85 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22579 |
84 |
Peak RF Voltage의 의미
| 22605 |
83 |
pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 22620 |
82 |
[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22696 |
81 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 22765 |
80 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[2] | 22852 |
79 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
| 22943 |
78 |
CCP/ICP , E/H mode
| 22979 |
77 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
| 23060 |
76 |
No. of antenna coil turns for ICP
| 23096 |
75 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
| 23126 |
74 |
DC glow discharge
| 23246 |
73 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
| 23261 |
72 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 23332 |
71 |
광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요?
| 23382 |
70 |
플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다.
| 23442 |