Ashing H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
2010.04.10 19:15
안녕하세여... 자료를 찾던중 도저히 모르겠어서 답변 부탁드립니다. 현재 H2 플라즈마로 표면 처리를 하고 있습니다. 그러나, 폴리머 계통이 잘 Ashing되지 않아, O2를 쓰려고 합니다. 몇몇 업체에서는 미량의 산소를 수소와 함께 쓰는 것으로 알고 있습니다. 그러나 산소와 수소가 섞이면 반응하는 것으로 알고 있어서 위험할 것 같아서 질문드립니다. 수소 플라즈마에 산소를 섞으면 얼마의 비율로 섞어야 하는지 궁금합니다. 정확한 수치가 없다면, 제가 찾아봐야할 관련자료라도 알려 주시면 고맙겠습니다. 감사합니다. 답변 꼭 부탁드립니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [273] | 76809 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20240 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57186 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68736 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92569 |
| 74 | DC glow discharge | 23252 |
| 73 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23265 |
| 72 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23335 |
| 71 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23392 |
| 70 | 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. | 23449 |
| 69 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23764 |
| 68 | Arcing | 23830 |
| 67 | 플라즈마 쉬스 | 23941 |
| 66 | plasma and sheath, 플라즈마 크기 | 23978 |
| 65 | self Bias voltage | 24057 |
| 64 | 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! | 24122 |
| 63 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24177 |
| 62 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 24328 |
| 61 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24349 |
| 60 | 플라즈마가 불안정한대요.. | 24518 |
| 59 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 24601 |
| » | H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] | 24658 |
| 57 | plasma와 arc의 차이는? | 24712 |
| 56 | ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] | 24756 |
| 55 | RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] | 24774 |