Others 공정검사를 위한 CCD 카메라 사용
2004.06.19 16:42
만일 플라즈마의 on/off 상태를 알 고자 함이면 일반적인 CCD 카메라를 이용해서
감시할 수 있을 것이며 특별할 상태의 빛 파장대를 관찰하고자 한다면 이 주파수에
맞는 lenz와 filter등을 이용한 CCD를 사용하여야 합니다. 혹은 corona streamer
등을 측정하고자 한다면 수 mirosec의 변화를 관찰할 수 있는 intensified CCD를
사용하게 됩니다. 이때는 CCD의 time resolution이 문제가 되니 이점을 잘 고려
하여야 할 것입니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] | 76841 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20252 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57192 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68744 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92588 |
56 | 형광등에서 일어나는 물리적인 현상 | 18536 |
55 | 스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 | 17789 |
54 | Noise 문제, 탐침에 의한 식각 플라즈마의.. | 19691 |
53 | self bias [1] | 19477 |
52 | rotational vibration excitation | 18188 |
51 | 플라즈마 matching | 20248 |
50 | DBD란 | 27732 |
49 | ccp-icp | 21514 |
48 | 플라즈마의 상태 | 14081 |
47 | 플라즈마와 자기장의 관계 | 28368 |
46 | 충돌 | 17707 |
45 | 유전체 플라즈마 | 17558 |
44 | sputtering | 18297 |
43 | 증착에 대하여... | 18103 |
42 | nodule의 형성원인 | 16764 |
41 | 물리적인 sputterting | 18369 |
40 | 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 | 15053 |
39 | 물질내에서 전하의 이동시간 | 29402 |
38 | CCP의 Vp가 ICP의 Vp보다 높은 이유 | 20011 |
37 | Plasma potential이.. 음수가 될수 있나요?.. | 15664 |