Matcher matching box에 관한 질문
2010.05.05 13:54
안녕하세요...
저는 반도체 회사에서 근무하는 사람입니다..
matching box 관련하여 질문이 있어서 글을 올립니다..
현업에서 matching box관련 monitoring하는 parameter중 Load position과 Tune position이란 게 있습니다..
여기 사이트에서 load capacitor와 tune capacitor 얘기가 언급되어 아마 capacitor 관련 용어인 것으로 짐작
되어 지는데 정확한 의미와 역할을 알고 싶습니다..
제 나름대로 확인한 바로는 impedance matching은 L nework와 Pi network가 있는데 위에서 언급한 Load
capacitor와 Tune capacitor는 Pi network에서 사용되는 2개의 capacitor 이름인가요?
답변 부탁 드립니다..
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] | 76841 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20252 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57192 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68744 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92588 |
36 | 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [1] | 28538 |
35 | 반도체 관련 질문입니다. | 28579 |
34 | Arcing [1] | 28659 |
33 | 플라즈마를 이용한 오존 발생장치 | 28933 |
32 | OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] | 28940 |
31 | [Sputter Forward,Reflect Power] [1] | 29270 |
30 | 물질내에서 전하의 이동시간 | 29402 |
29 | 플라즈마의 정의 | 29478 |
» | matching box에 관한 질문 [1] | 29679 |
27 | PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건 | 29753 |
26 | 플라즈마 밀도 | 30000 |
25 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. | 30036 |
24 | DC Bias Vs Self bias [5] | 31564 |
23 | RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. | 31678 |
22 | ICP 플라즈마에 관해서 [2] | 32016 |
21 | RF에 대하여... | 32031 |
20 | PEALD관련 질문 [1] | 32623 |
19 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34963 |
18 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35941 |
17 | Self Bias | 36388 |
- 논문: 이상원박사, " 전기적 특성을 고려한 ICP Source 설계",한국진공학회지 제18권 제3호 2009.5, pp. 176~185(10pages) 를 참고하세요.