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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2
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Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R]
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플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성]
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plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다. [DC 바이어스 전압과 쉬스 전기장]
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Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료]
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RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [OES 진단과 sputter yield]
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III-V 반도체 에칭 공정 문의
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RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [RF matcher noise]
[1] | 591 |
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타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [플라즈마 확산]
[1] | 590 |
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Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [DC breakdown 및 sheath]
[1] | 580 |
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RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [장비 분해 리빌트 및 테스트]
[1] | 575 |
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micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장]
[1] | 569 |
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plasma modeling 관련 질문 [Balance equation]
[1] | 569 |
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Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다.
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E-field plasma simulation correlating with film growth profile [플라즈마 확산과 밀도 분포]
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gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제]
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RF플라즈마에서 quasineutral에 대해 궁금한게 있어 질문글 올립니다.[quasineutral]
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플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [전자 충돌 현상 및 입자 충돌 현상]
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chamber에 인가되는 forward power 관련 문의 [송전선로 모델 및 전원의 특성]
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Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화]
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