안녕하세요. 에칭 장비 Eng'r로 근무중에 있습니다.

한가지 문의 사항이 있어서 이렇게 글을 작성하게 되었습니다.

 

Matcher에 연결되어 있는 60Mhz RF 케이블에서 발열현상이 나타나고 있습니다.

 -> 케이블 피복 온도가 70도 이상 상승.

RF 케이블의 발열 현상이 정상적인 현상인지 아니 설계적 약점이나 매칭 불안정에서 

나타나는 현상인지 궁금해서 문의드립니다.

그리고 케이블 발열 현상이 어떤 문제가 발생될수 있는지 문의 드립니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76871
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
737 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 360
736 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 364
735 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 367
734 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 370
733 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 376
732 plasma modeling 관련 질문 [1] 387
731 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 391
730 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 392
729 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 396
728 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 402
727 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 405
726 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 406
725 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 410
724 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 416
723 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] 419
722 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 424
721 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 428
720 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 432
719 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 436
718 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [1] 438

Boards


XE Login