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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59711
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583 No. of antenna coil turns for ICP 22630
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581 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22588
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579 self Bias voltage 22399
578 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 22390
577 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 22384
576 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22265
575 고온플라즈마와 저온플라즈마 22249
574 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22248
573 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [1] 22232
572 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22218
571 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22105
570 plasma와 arc의 차이는? 22053
569 Peak RF Voltage의 의미 21970
568 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] 21839
567 플라즈마 코팅에 관하여 21822
566 플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적 21671
565 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 21640
564 펄스바이어스 스퍼터링 답변 21628

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