충돌에는 탄성충돌과 비탄성충돌이 있다고 했습니다. 플라즈마의 발생은 주로 비탄성 충돌 중에 이온화 충돌 과정을 통해서 중성 입자들이 전하를 갖는 이온과 음전하의 전자로 이온화되고 이러한 반응이 지속적으로 일어나서 다수의 전자들과 이온들이 공간내네 존재하는 것이 플라즈마고 하였습니다. 여기서 이온화 과정이 일어나기 위해서는 중성입자가 이온화에 필요한 에너지가 전달되어야 할텐데 이 에너지를 전달하는 전달자가 주변에 있던 자유전자들이라 했습니다. 이들 자유전자들은 전기장하에서 쉽게 에너지를 얻으며 중성입자와 충돌하게 되는데 한번의 충돌에 의해서 중성입자들이 이론화에 필료한 에너지를 갖게 되는 것은 아니므로 잦은 충돌로 인한 에너지 전달이 필요한 것입니다. 또한 한번의 충돌에서도 효율적으로 전자가 갖고 있는 에너지가 전달되어야 할것입니다. 아울로 한번 충돌레 참여한 자유전자는 충돌 후에도 에너지를 계속 얻게되면 다음 충돌에서도 이온화 과정에서 자신의 역활이 유지될 것입니다. 이러한 조건들이 잘 형성되기 위해서는 자유전자가 에너지를 얻는 공간이 필요할 것이며 충돌 빈도가 너무 높지 않아야 할 것 입니다. 예를 들면 권투를 한다고 합시다. 이때 권투를 출근길 전철속에서 한다면 상대방을 아무리 때려도 효율적으로 때리기 힘들 것 입니다. 비록 잦은 주먹을 내더라도 상대가 가까이 있어서 상대에게 효률적인 가격이 되기는 힘듬니다. 비교적 팔길리가 제개로 펴질 공간이 마련되어야만 효율적인 공격을 이룰 수 있습니다. 대기압 출라즈마에서는 위에서 말한 충돌에 칠요한 위에 조건이 유지되기 매우 어려워 플라즈마 발생 및 유지가 어렵습니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] | 75426 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19161 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56479 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67556 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 89363 |
202 | 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] | 837 |
201 | 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] | 851 |
200 | RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] | 866 |
199 | 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] | 888 |
198 | O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] | 899 |
197 | 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] | 901 |
196 | 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] | 908 |
195 |
전자 온도 구하기
[1] ![]() | 909 |
194 | 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] | 909 |
193 | 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] | 922 |
192 | 진학으로 고민이 있습니다. [2] | 928 |
191 | Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] | 946 |
190 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 947 |
189 | DC Plasma 전자 방출 메커니즘 | 961 |
188 | 플라즈마 코팅 [1] | 1001 |
187 | wafer bias [1] | 1021 |
186 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1035 |
185 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1037 |
184 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1065 |
183 | 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] | 1078 |