Others 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요.
2017.09.07 15:11
현재, 스퍼터링 시스템에 대해 공부를 하고 있습니다.
자연스레 플라즈마에 대해 알아야 되더라고요.
근데 공부 중에 플라즈마에 관련된 여러 변수 또는 파라미터들을 알게 되었습니다.
그 중 제가 질문하고자 하는 변수는 RF 파워인데요
RF 파워가 커지면 이온 에너지도 커진다고 알고 있습니다.
이게 왜 그런지 알고 싶습니다!
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [182] | 75022 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 18864 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56341 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 66858 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 88326 |
35 | RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] | 4689 |
34 | RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] | 3396 |
33 | ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] | 3360 |
32 | Bias 관련 질문 드립니다. [1] | 2998 |
31 | Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] | 2870 |
30 | 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] | 2863 |
29 | 질문있습니다. [1] | 2333 |
28 | O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] | 1425 |
27 | 강의를 들을 수 없는건가요? [2] | 1328 |
26 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1304 |
25 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1270 |
» | 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] | 1105 |
23 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1022 |
22 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 974 |
21 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 968 |
20 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 910 |
19 | 진학으로 고민이 있습니다. [2] | 883 |
18 | O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] | 856 |
17 | 문의 드립니다. [1] | 776 |
16 | 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] | 764 |
PF Power 는 인가 전압 x 인가 전류 x 위상차의 함수인 power factor를 곱한 값입니다. 즉 power의 크기가 커지는 경우는 인가된 전압이 커지나 전류가 커지거나 서로의 위상이 잘 정돈된 경우세 power가 커집니다. 따라서 전압이 커지는 경우, 전력 인가 대상 앞의 이온의 가속 에너지를 키울 수 있게 되며, 전류를 키우는 경우 인가 대상으로 흐르는 플라즈마 전류를 키울 수가 있겠고, 위상을 잘 맞추는 경우 전력이 플라즈마 가속과 생성 반응으로 잘 흡수되도록 할 수가 있게 됩니다. 전력의 인자를 나누고 그 역할을 생각해 보면 공부에 도움이 될 것입니다.