Sputtering 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다.

2019.03.04 10:48

대구한밭 조회 수:1386

안녕하세요.

PECVD로 탄소 박막을 합성하고, 표면을 Oxide 시키기 위해 plasma asher로 200W/30 min 동안

처리하였는데 반응이 없어 다른 방법을 모색중입니다.

그래서 스퍼터로 가능할까 싶어서 궁금증을 여기에 풀어 봅니다.

보통 O2/N2는 반응성 스퍼터링에 사용되는 것으로 알고 있습니다.

혹시나, (1) Ar 대신 O2 or N2만 주입해도 플라즈마가 형성이 가능한가요?

그리고 (2) 타겟없이도 플라즈마가 뜨는가요?

이 두 부분이 궁금합니다.

생뚱맞는 질문일수도 있지만,

답변 부탁드립니다.

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76728
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20191
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68700
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
122 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 889
121 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2261
120 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1376
119 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1087
118 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1243
117 질문있습니다 교수님 [1] 22117
116 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1730
115 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6576
114 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3646
113 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2974
112 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 542
111 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1934
110 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3276
109 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1178
108 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2873
107 PEALD관련 질문 [1] 32614
106 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1071
105 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 712
104 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1982
103 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1498
쓰기
태그

Boards

XE Login