Deposition 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다.

2019.05.22 16:11

Beatrice 조회 수:719

안녕하세요. 반도체 회사에 근무중인 회사원 입니다.


다름이 아니고 PECVD로 박막 증착 시 Radical들의 움직임에 관해 궁금한 점이 있어서 글을 올립니다.


Radical이 Wafer위에서 migration후 반응하여 island를 만들고 그 섬들이 성장하여 박막을 형성하는 것으로 알고 있는데


Radical이 가지는 에너지, 기판의 온도, 기판을 이루는 물질과의 결합에너지 등을 통해 Radical이 기판위에서


평균적으로 얼마나 움직이는지, 어느 위치를 안정적인 site로 인식하고 반응하는지 등을 알 수 있을까요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76857
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20262
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57194
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68747
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92611
123 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2478
122 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 896
121 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2283
120 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1385
119 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1091
118 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1249
117 질문있습니다 교수님 [1] 22156
116 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1746
115 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6659
114 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3658
113 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 3000
112 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 545
111 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1974
110 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3326
109 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1185
108 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2881
107 PEALD관련 질문 [1] 32624
106 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1078
» 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 719
104 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 2006
쓰기
태그

Boards

XE Login