Deposition 플라즈마 색 관찰

2018.05.08 14:21

우인범 조회 수:3065

안녕하세요, 반도체분야로 취업하려는 취업준비생입니다.


얼마전에 공정실습을 다녀왔었는데요. SiO2 를 PECVD로 증착하는 과정에서 플라즈마 관찰을 했었습니다. process gas로 N2O를 SiH4보다 많이 투입했음에도 불구하고 SiH4의 플라즈마 색이 관찰된 것에 대해서 이유를 분석해보라는 문제를 주셨습니다. 


당시에는 두 가스의 플라즈마 색이 갖는 파장이 합성됐을 때 푸리에와 관련해서 나온 현상이라고 이해했었는데, 다시생각해보니 정확한 정리가 잘 되지 않았습니다.


이 현상에 대해서 피드백을 받을 수 있을까요??

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [126] 5571
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16853
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51343
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64184
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84145
92 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7570
91 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 7565
90 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6493
89 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6205
88 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 5837
87 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 5659
86 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 5220
85 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 4932
84 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 4048
83 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 3795
82 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 3527
81 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3526
80 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3510
79 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3077
» 플라즈마 색 관찰 [1] 3065
77 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 3039
76 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 2888
75 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 2874
74 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2677
73 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 2659

Boards


XE Login