안녕하세요.

CVD공정쪽에서 일하고 있는 엔지니어 반형진입니다.

a-Si 증착 시 Vdc값이 증착된 막 내의 수소량에 어떻게

영향을 미치는지 알려주시면 정말 감사하겠습니다.  

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76968
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20328
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57246
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68798
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92788
124 고온 플라즈마 관련 8090
123 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 8060
122 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7710
121 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6726
120 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6570
119 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6501
118 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6447
117 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6287
116 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6105
115 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5939
114 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5491
113 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5398
112 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4321
111 플라즈마 색 관찰 [1] 4320
110 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4168
109 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3981
108 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3976
107 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3852
106 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3670
105 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3565

Boards


XE Login