안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [129] 5616
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16915
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51352
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64226
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84310
632 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 1046
631 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 558
630 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 237
629 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 556
628 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 943
627 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] 7114
626 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 2568
625 ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] 13046
624 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 745
623 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 750
622 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 520
621 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 1205
620 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1226
619 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 785
618 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 435
617 anode sheath 질문드립니다. [1] 515
616 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 475
615 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 415
614 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1027
613 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1049

Boards


XE Login