개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:48587 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48587
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 49804
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 55067
491 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 502
490 플라즈마 관련 기초지식 [1] 779
489 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 1230
488 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 455
487 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 258
486 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 3262
485 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 362
484 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 441
483 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 664
482 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 270
481 교수님 질문이 있습니다. [1] 318
480 wafer bias [1] 301
479 Group Delay 문의드립니다. [1] 623
478 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 195
477 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 369
476 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 340
475 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 484
474 PEALD관련 질문 [1] 422
473 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 541
472 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 703

Boards


XE Login