안녕하세요

배가스 제거 기술 개발을 하고 있는 직장인 이성수라고 합니다.

플라즈마 관련 문의 사항이 있어서 연락을 드립니다.

오존을 이용하여 gas를 분해하는 기술에 대해서 알아보고 있는데요

오존이 아닌 플라즈마 이온이 gas를 분해하는데 더  강한 산화제로 작용울 할수 있는것 같습니다.

그래서 오존발생기(플라즈마방식)에서 오존 외에 활성이온량을 측정할수 있는 방법을 찾고 있습니다.

활성이온량을 측정할수 있는 방법이 있는지요?

그리고 플라즈마 밀도를 측정하기 위해서 EOS 를 사용하는 것으로 알고 있는데요

플라즈마 밀도와 활성이온량의 의미는 같은것인지요?

현재 활성이온 측정 방법을 알수 없어서 개선방법을 못찾고 있습니다.

교수님의 고견 부탁 드립니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103326
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24716
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61526
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73520
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105953
774 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 567
773 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 568
772 plasma modeling 관련 질문 [Balance equation] [1] 569
771 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [장비 분해 리빌트 및 테스트] [1] 574
770 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [DC breakdown 및 sheath] [1] 580
769 III-V 반도체 에칭 공정 문의 [1] 588
768 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [플라즈마 확산] [1] 590
767 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [RF matcher noise] [1] 591
766 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [OES 진단과 sputter yield] [1] file 592
765 Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료] [1] 596
764 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다. [DC 바이어스 전압과 쉬스 전기장] [1] 602
763 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 605
762 Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R] [1] 605
761 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 610
760 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 610
759 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [상압 플라즈마 임피던스, matching] [1] 612
758 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 615
757 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 615
756 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning] [1] 616
755 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델] [1] 632

Boards


XE Login