안녕하세요, 

현재 스퍼터 장비를 사용하기에 앞서 플라즈마에 대해 공부하고 있는 서울대학교 대학원생입니다. 

스퍼터 장비에서 사용되는 DC,RF파워간의 차이, reative, magnetron을 사용하는 이유와 과정에 대해 전반적으로 공부하고 이해하는 과정에서 

가장 원초적인 궁금증이 생겼고, 이에 대한 명쾌한 답을 찾을 수 없어서 질문드립니다. 

 

Q1) 챔버내에서 타겟,기판,고온 조건이 없더라도 방전기체를 넣어주고 파센의법칙에 의해 계산된 전기장을 가해주면 플라즈마를 발생시킬 수 있다고 알고 있고, 실제로 발생하는 것을 확인하였습니다. 그렇다면 폐쇄된 강의실에 매우 강한 전기장을 가해준다면 실제로 강의실에 플라즈마가 생기는 것을 확인 할 수 있나요? 없다면 왜 그런지 알고 싶습니다. (폐쇄되었다는 조건외에는 별다른 조건이 없습니다)

 

Q2) 플라즈마 발생 과정에서 source가 되는 seed electron은 진공상태여도 챔배내에 존재하게 되는데 도데체 이 seed electron은 정확히 어디서, 어떻게 생겨났으며, 챔버내에서 어떤식으로 존재하게 되는건가요? 

 (저는 그저 cosmic rays에 의해 생겨난 전자가 자연상태를 돌아다니까 챔버내에서도 당연하게 존재한다고만 알고 있습니다.)

 

 

짧지 않는 글 읽어주셔서 감사합니다. 또한 답변주시면 감사하겠습니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76739
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20207
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68703
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92291
729 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24337
728 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24312
727 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24174
726 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24122
725 self Bias voltage 24035
724 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23973
723 플라즈마 쉬스 23934
722 Arcing 23806
721 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23760
720 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23442
719 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23382
718 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23333
717 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23262
716 DC glow discharge 23246
715 고온플라즈마와 저온플라즈마 23126
714 No. of antenna coil turns for ICP 23096
713 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23061
712 CCP/ICP , E/H mode 22981
711 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22943
710 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22852

Boards


XE Login