Others Bias 관련 질문 드립니다.

2022.01.11 14:32

박준석 조회 수:3504

안녕하세요 교수님. 반도체 공정팀에서 근무하는 엔지니어입니다.

 

RIE 장비 Process 담당하게 되어 공부중인데

Recipe Tuning 중 Bias Select 모드에서, 

Bias 를 W 와 V 중 선택하게 되었는데 둘의 차이점이 궁금합니다.

 

또한 self bias와 관련이 있는지 답변해주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77263
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20478
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57385
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68915
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92964
747 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 861
746 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 848
745 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 510
744 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 345
743 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 315
742 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 540
741 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 422
740 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 550
739 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 785
738 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 683
737 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 468
736 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 342
735 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 381
734 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 640
733 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 291
732 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 382
731 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 265
730 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 678
729 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 612
728 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 370

Boards


XE Login