Deposition Compressive한 Wafer에 대한 질문

2023.06.03 11:56

CVDENG'R 조회 수:234

현재 반도체회사에서 CVD 엔지니어로 근무중에 있습니다.

최근 CuSi 공정에서 지속적으로 Thickness에 문제가 발생하여 Wafer Map을 확인하게 되면 Compressive한 Map으로 관찰되고 있습니다.

Wafer를 Compressive하게 변화하게 만드는 source가 대부분 어떤게 있는지 알 수 있을까요? (Ex. AlF, Plasma, Temp ETC)

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76820
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20249
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57191
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68739
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92578
735 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 352
734 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 577
733 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 265
732 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 354
731 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 250
730 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 611
729 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 550
728 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 340
727 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] 472
726 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 361
725 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 698
724 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 591
723 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 390
722 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 186
721 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 151
720 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 407
» Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 234
718 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 670
717 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 813
716 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1406
쓰기
태그

Boards

XE Login