ESC 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다.

2023.03.08 15:28

윤정환 조회 수:552

안녕하세요.

 

실제 양산에서 150mm  200mm 300mm 정전척 마다 chucking을 위해 인가 되는 voltage 값이 얼마 정도 되는지 궁금합니다.

 

그리고 chucking voltage가 너무 크면 생기는 문제와 그 maximum 값을 정하는 지표가 따로 있을까요?

 

너무 궁금해서 논문도 찾아보고 그러는데 오픈 되어있는 정보가 너무 없는 것 같아서 답답하네요..

 

도움을 부탁드립니다...

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] 75777
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19464
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56675
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68054
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90353
698 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [1] 411
697 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 417
696 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 422
695 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 423
694 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 425
693 glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [1] 427
692 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 427
691 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 429
690 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 435
689 plasma 공정 중 색변화 [1] 435
688 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 438
687 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 443
686 self bias [1] 444
685 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 445
684 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 452
683 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 455
682 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 455
681 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 457
680 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 464
679 RF Sputtering Target Issue [2] file 471
쓰기
태그

Boards

XE Login