안녕하세요, 반도체 회사에 근무하는 직장인입니다. 

 

여쭐 것이 있어 글을 남겨 봅니다.

 

산업현장에서 쓰는 플라즈마 챔버간의 특성 차이 문제는 극복해야할 문제인데요, 

제가 지금 경험하고 있는것은, N2 gas 전처리의 특성이 달라서 챔버간 소자 결과 차이가 난다는 것입니다. 

여기서 질문이 있습니다.

 

1. CVD의 RPSC step(셀프 클리닝)에서 시즈닝 공정 조건 즉 시즈닝 레시피가 Sio2 증착 recipe (Sih4+N20) 인지? 혹은 SiNx(Sih4+nh3)인지에 따라 후속에서 진행될 N2 플라즈마의 전자 온도, 전자 밀고, 이에 따른 N2 해리율 변동을 야기 할 수 있을지요?? 

 

2. 야기 한다면 시즈닝을 SiO2로 하다가 Sinx 로 할 경우, 전자 밀도 온도 N2 해리율이 증가하는 방향일지? 감소하는 방향일지요?

이것이 시즈닝 박막의 유전율과 연관이 있을지?? 궁금합니다.

 

답변주시면 큰 도움이 될 것 같습니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76897
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20292
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57209
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68761
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92719
217 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 743
216 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 749
215 교수님 질문이 있습니다. [1] 762
214 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 775
213 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 788
212 Collisional mean free path 문의... [1] 795
211 플라즈마 충격파 질문 [1] 805
210 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 829
209 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 833
208 Self bias 내용 질문입니다. [1] 852
207 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 857
206 문의 드립니다. [1] 873
205 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 900
204 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 936
203 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] 944
202 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] 960
201 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 967
200 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 970
199 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 976
198 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 977

Boards


XE Login