안녕하세요 제가 ICP-RIE로 SIO2를 식각하는 과정에서 나머지 변수는 모두 똑같고 (CF4+He gas) RF power를 올려서 식각했는데 측정결과 RF power를 올렸음에도 식각률이감소했습니다. 왜 이러한 결과가 나왔는지 그 이유에 대해 혹시 설명해주실수 있을까요? ㅠㅠ

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103267
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24708
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61513
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73516
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105934
774 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 567
773 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 568
772 plasma modeling 관련 질문 [Balance equation] [1] 569
771 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [장비 분해 리빌트 및 테스트] [1] 572
770 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [DC breakdown 및 sheath] [1] 578
769 III-V 반도체 에칭 공정 문의 [1] 587
768 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [OES 진단과 sputter yield] [1] file 589
767 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [플라즈마 확산] [1] 590
766 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [RF matcher noise] [1] 590
765 Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료] [1] 595
764 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다. [DC 바이어스 전압과 쉬스 전기장] [1] 602
763 Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R] [1] 603
762 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 605
761 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 608
760 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 609
759 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [상압 플라즈마 임피던스, matching] [1] 611
758 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning] [1] 614
757 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 614
756 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 615
755 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 631

Boards


XE Login