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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
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530 |
DC glow discharge
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529 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
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528 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22149 |
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527 |
[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22141 |
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pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 22141 |
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floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[1] | 22114 |
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524 |
self Bias voltage
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523 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 22031 |
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Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 21914 |
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고온플라즈마와 저온플라즈마
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520 |
플라즈마 코팅에 관하여
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519 |
플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적
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518 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 21581 |
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517 |
펄스바이어스 스퍼터링 답변
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516 |
RF frequency와 RF power 구분
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515 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 21446 |
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514 |
manetically enhanced plasmas
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513 |
플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다.
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512 |
Peak RF Voltage의 의미
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511 |
플라즈마내의 전자 속도
[1] | 21330 |
