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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63767
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619 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23041
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617 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23008
616 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 22990
615 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 22950
614 self Bias voltage 22869
613 DC glow discharge 22771
612 No. of antenna coil turns for ICP 22770
611 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22703
610 plasma와 arc의 차이는? 22615
609 고온플라즈마와 저온플라즈마 22584
608 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 22553
607 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 22548
606 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22382
605 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22379
604 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [1] 22363
603 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22333
602 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22299
601 Peak RF Voltage의 의미 22144
600 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] 22074

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