안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 103236
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24702
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61503
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73514
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105928
772 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [Sheath model과 bias] [3] 24933
771 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [ICP의 skin depth와 공정 균일도] [1] 24881
770 플라즈마가 불안정한대요.. [압력과 전력 조절] 24664
769 Arcing [아크의 종류와 발생 원인] 24523
768 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24434
767 self Bias voltage [Self bias와 mobility] 24408
766 플라즈마 쉬스 [Sheath와 self bias] 24255
765 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24206
764 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [Cooling과 Etch rate] [2] 24203
763 plasma and sheath, 플라즈마 크기 24190
762 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23629
761 CCP/ICP , E/H mode 23603
760 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23475
759 DC glow discharge 23422
758 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23409
757 remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [Remote plasma의 Radical] [1] 23393
756 고온플라즈마와 저온플라즈마 23379
755 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) [ICP와 CCP의 heating] 23339
754 No. of antenna coil turns for ICP [안테나 turn 수와 플라즈마 발생 효율] 23337

Boards


XE Login