안녕하세요 플라즈마 소스개발을 하고 있는 김상규라고 합니다.

전자기장 시뮬레이션을 통해 ICP Source 를 개발 중에 있습니다만 이해가 되지 않는 부분이 있어 질문 드립니다.

조건 : 1000mm X 1000mm chamber , process gap 250mm , icp source , H-field 관측 , Source only (bias x)

현상 : 상부 Antenna 근처에서 측정(antenna로 부터 30mm)  Map 이 center high 인데 substrate (substrate 표면으로 부터 5mm) 로 내려오  면 center 가 low 가 됨. (stage 에 절연층을 쌓아도 비슷함)

질문 : side, 4corner 가 low 로 되는 것은 챔버 벽면으로 electron 이 빠져나가면서 그럴수 있다고 생각 됩니다만

          왜 Chamber 벽면에서 가장 먼 가장자리(substrate center position) 의 field 가 약해지는 것 인지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76819
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20247
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57191
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68739
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92578
735 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24350
734 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24334
733 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24181
732 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24122
731 self Bias voltage 24061
730 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23980
729 플라즈마 쉬스 23943
728 Arcing 23831
727 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23766
726 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23450
725 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23394
724 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23337
723 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23265
722 DC glow discharge 23256
721 고온플라즈마와 저온플라즈마 23138
720 No. of antenna coil turns for ICP 23105
719 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23077
718 CCP/ICP , E/H mode 23009
717 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22945
716 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22855

Boards


XE Login