공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[329]
| 98224 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 23856 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 60534 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 72404 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 103100 |
52 |
rotational vibration excitation [TLD와 IRLAS]
| 18289 |
51 |
플라즈마 matching [Heating mechanism, matching]
| 20478 |
50 |
DBD란
| 28051 |
49 |
ccp-icp
| 21904 |
48 |
플라즈마의 상태
| 14187 |
47 |
플라즈마와 자기장의 관계
| 28973 |
46 |
충돌
| 17860 |
45 |
유전체 플라즈마
| 17706 |
44 |
sputtering
| 18412 |
43 |
증착에 대하여...
| 18188 |
42 |
nodule의 형성원인
| 16885 |
41 |
물리적인 sputterting
| 18464 |
40 |
산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성
| 15165 |
39 |
물질내에서 전하의 이동시간
| 29454 |
38 |
CCP의 Vp가 ICP의 Vp보다 높은 이유
| 20130 |
37 |
Plasma potential이.. 음수가 될수 있나요?..
| 15936 |
36 |
에칭후 particle에서 발생하는 현상
| 9805 |
35 |
플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마
| 14896 |
34 |
PMMA(폴리메틸메타크릴레이트)의 표면개질에 관해
[1] | 15830 |
33 |
공정검사를 위한 CCD 카메라 사용
| 16162 |