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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[337]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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형광등에서 일어나는 물리적인 현상 [Film coating과 Ion frequency]
| 18728 |
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55 |
스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 [Capacitance와 DC ripple]
| 18261 |
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54 |
Noise 문제, 탐침에 의한 식각 플라즈마의.. [RF ground와 Cl Plasma]
| 19913 |
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53 |
self bias [Capacitor와 mobility]
[1] | 19912 |
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52 |
rotational vibration excitation [TLD와 IRLAS]
| 18404 |
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51 |
플라즈마 matching [Heating mechanism, matching]
| 20637 |
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50 |
DBD란
| 28219 |
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ccp-icp
| 22147 |
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플라즈마의 상태
| 14289 |
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47 |
플라즈마와 자기장의 관계
| 29295 |
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46 |
충돌
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유전체 플라즈마
| 17816 |
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44 |
sputtering
| 18539 |
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43 |
증착에 대하여...
| 18289 |
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nodule의 형성원인
| 17012 |
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41 |
물리적인 sputterting
| 18563 |
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산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성
| 15268 |
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물질내에서 전하의 이동시간
| 29540 |
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CCP의 Vp가 ICP의 Vp보다 높은 이유
| 20233 |
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Plasma potential이.. 음수가 될수 있나요?..
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