Others IEDF EQP에 대한 답변
2004.06.19 16:02
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| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 61630 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 73575 |
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| 53 | self bias [Capacitor와 mobility] [1] | 19815 |
| 52 | rotational vibration excitation [TLD와 IRLAS] | 18309 |
| 51 | 플라즈마 matching [Heating mechanism, matching] | 20530 |
| 50 | DBD란 | 28135 |
| 49 | ccp-icp | 21990 |
| 48 | 플라즈마의 상태 | 14216 |
| 47 | 플라즈마와 자기장의 관계 | 29129 |
| 46 | 충돌 | 17913 |
| 45 | 유전체 플라즈마 | 17739 |
| 44 | sputtering | 18447 |
| 43 | 증착에 대하여... | 18221 |
| 42 | nodule의 형성원인 | 16929 |
| 41 | 물리적인 sputterting | 18488 |
| 40 | 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 | 15193 |
| 39 | 물질내에서 전하의 이동시간 | 29476 |
| 38 | CCP의 Vp가 ICP의 Vp보다 높은 이유 | 20156 |
| 37 | Plasma potential이.. 음수가 될수 있나요?.. | 16034 |
| 36 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9864 |