현재 반도체 장비 업체에 근무하고 있는 엔지니어입니다.

신입사원 발표 과제로 스퍼터링시 기판 온도 계산하는 과정을 직접 변수를 설정하고 구해보라고 주제를 받았습니다.

대충 타겟 온도를 200도, 냉각 장치를 20도라고 가정하고 타겟은 알루미늄 기판은 유리로 가정해봤는데

여러 열역학 이론을 공부해봤지만 아무래도 기판 온도를 계산하는 법 방향성을 못잡겠습니다..

조언주시면 감사합니다!!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78037
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20847
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93632
39 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식] [1] 183
38 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 182
37 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 181
36 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 181
35 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 177
34 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 169
33 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 169
32 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power] [1] 167
31 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 166
30 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [상압플라즈마 소스] [1] 166
29 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 158
28 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 158
27 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 148
26 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 145
25 플라즈마 설비에 대한 질문 139
24 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 137
23 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 134
22 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭] [1] 118
21 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 113
20 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [부착물의 흡착 관리] [1] 106

Boards


XE Login