번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48660
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 50558
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 56142
489 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 1342
488 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 491
487 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 274
486 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 3526
485 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 443
484 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 476
483 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 734
482 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 321
481 교수님 질문이 있습니다. [1] 328
480 wafer bias [1] 329
479 Group Delay 문의드립니다. [1] 679
478 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 212
477 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 403
476 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 609
475 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 528
474 PEALD관련 질문 [1] 1516
473 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 589
472 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 804
471 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 526
470 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 286

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