공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[327]
| 97828 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 23801 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 60478 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 72330 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 102861 |
752 |
대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해]
[1] | 434 |
751 |
standing wave effect, skin effect 원리 [Maxwell 방정식 이해]
[1] | 818 |
750 |
Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [DC breakdown 및 sheath]
[1] | 535 |
749 |
RF 주파수에 따른 차이점 [이온 및 전자 주파수 선택]
[1] | 1285 |
748 |
center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2
| 567 |
747 |
center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge]
[1] | 1310 |
746 |
RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭]
[2] | 1454 |
745 |
안녕하세요, RPS나 DEPOSITION 간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [플라즈마 충돌 반응]
[1] | 770 |
744 |
RIE Gas 질문 하나 드려도 될까요? [Sheath instability]
[1] | 591 |
743 |
RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [RF matcher noise]
[1] | 547 |
742 |
안녕하세요 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [E x B drift]
[1] | 707 |
741 |
CURRENT PATH로 인한 아킹 [RF 접지 면접촉 개선]
[1] | 624 |
740 |
플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별]
[1] | 807 |
739 |
주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating]
[1] | 1129 |
738 |
remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화]
[1] | 992 |
737 |
ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [방전 기전]
[1] | 763 |
736 |
RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [OES 진단과 sputter yield]
[1] | 529 |
735 |
plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다. [DC 바이어스 전압과 쉬스 전기장]
[1] | 569 |
734 |
Arcing과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [Self bias와 DC glow 방전]
[1] | 1089 |
733 |
RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [장비 분해 리빌트 및 테스트]
[1] | 515 |