플라즈마용사코팅에서 carrier gas 종류에 따른 차이점이 무엇일까요?

carrier gas로 Ar/He/H2/N2 사용 시 각 gas에 따른 차이점이 무엇인지 왜 그런 차이가 나는지에 대해 궁금합니다.

플라즈마 발생 기체로 사용시에는 이온화 에너지 차이에 따른 변화가 있을 것으로 예상 되지만

carrier gas 종류에 따른 차이도 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76736
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
193 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6438
192 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1908
191 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 446
190 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1237
189 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 587
188 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 759
187 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1030
186 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1226
185 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 550
184 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1689
183 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1507
182 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3383
181 질문있습니다. [1] 2572
180 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2128
179 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 737
178 교수님 질문이 있습니다. [1] 745
177 wafer bias [1] 1129
176 Group Delay 문의드립니다. [1] 1144
175 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2222
174 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3955

Boards


XE Login