안녕하십니까 플라즈마 입문단계를 공부하고 있는 전기공학과 학생입니다.

다름이 아니라 공부를 하는 중에 플라즈마 소스 부분에 직류 글로우 방전에서 r-process 부분에서 2차 방출이 일어나는데

여기서 이차전자가 이온화를 잘시키는 것으로 알고 있습니다. 하지만 이온은 그에 비해 잘 시키지 못한것 같습니다

정리하자면 플라즈마에서 이온은 전자에 비해 중성종을 이온화시키기 어려운 이유가 무엇일까요?

기본적인 내용인데 많이 부족해서 모르겠습니다.

부탁드립니다!! 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76902
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20295
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57212
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68764
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92723
197 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 492
196 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1861
195 플라즈마 살균 방식 [2] 11493
194 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2452
193 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6453
192 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1933
191 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 450
190 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1246
189 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 590
188 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 775
187 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1040
186 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1248
185 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 554
184 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1713
183 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1525
182 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3441
181 질문있습니다. [1] 2585
» 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2151
179 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 749
178 교수님 질문이 있습니다. [1] 762

Boards


XE Login