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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68542
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99 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2189
98 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2190
97 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2206
96 etching에 관한 질문입니다. [1] 2222
95 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2273
94 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2278
93 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2332
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91 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2565
90 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2569
89 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2592
88 PR wafer seasoning [1] 2687
87 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2825
86 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2852
85 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2873
84 Plasma etcher particle 원인 [1] 2891
83 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3019
82 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3119
81 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3128
80 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3464

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