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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63781
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67 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 2421
66 PR wafer seasoning [1] 2406
65 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2402
64 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2311
63 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2058
62 Plasma etcher particle 원인 [1] 2039
61 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 1914
60 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1786
59 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 1639
58 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 1627
57 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1561
56 터보펌프 에러관련 [1] 1472
55 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1459
54 etching에 관한 질문입니다. [1] 1459
53 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1414
52 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1405
51 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1250
50 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1221
49 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1219
48 Ar plasma power/time [1] 1194

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