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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65696
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76 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2809
75 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 2789
74 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2605
73 PR wafer seasoning [1] 2514
72 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2498
71 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2482
70 Plasma etcher particle 원인 [1] 2315
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68 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2249
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66 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 2090
65 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2042
64 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1988
63 etching에 관한 질문입니다. [1] 1761
62 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1746
61 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1664
60 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1654
59 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1563
58 터보펌프 에러관련 [1] 1559
57 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1551

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