안녕하십니까? 반도체 현업 종사자 입니다.


(PAP)plasma absorption probe관련하여, 측정을 진행하고 있습니다. 플라즈마 밀도 측정입니다.


일단 측정을 하기 위해서 펄스제너레터, 펄스 트리거, 오실로스코프등을 준비하여 측정을 하고 있는데요.


원리가 주파수에 따라서 전자밀도를 측정하는것으로 추정하고 있습니다.


일반검색자료애서 (PAP)plasma absorption probe관련 자료가 잘 검색이 되지 않아서요....


교수님, 외람되지만, (PAP)plasma absorption probe관련 원리와 추천해주실 논문 있으시면 부탁드립니다.


그리고, 이 측정 방법도 간접적 측정이 아닌 직접적 측정방식으로 알고 있습니다. 랑뮤어 프로브는 플라즈마 간섭현상이 있어서 정확도 떨어지는 것으로 알고 있느데....제가 생각하기로는 분광기를 통한 전자밀도 측정이 정확하다고 생각합니다. 굳이 (PAP)plasma absorption probe를 사용하는 이유가 있는지요?? 다른 방법대비 장점이 있는지가 궁금합니다.


감사합니다. 좋은하루 보내십시오.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76731
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20200
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68701
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 437
708 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 399
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 615
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 315
705 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1011
704 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 589
703 self bias [1] 528
702 Self bias 내용 질문입니다. [1] 819
701 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 702
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 618
699 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1174
698 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 366
697 ICP lower power 와 RF bias [1] 1436
696 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 576
695 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 170
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 869
693 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 609
692 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 609
691 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28724
690 plasma modeling 관련 질문 [1] 387

Boards


XE Login