Plasma in general Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성

2021.05.22 22:23

abccc 조회 수:1744

교수님 안녕하세요.

 


1.
http://pal.snu.ac.kr/index.php?mid=board_qna_new&category=67497&document_srl=78754
(Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate)

 

글 두번째 문단에 '다음으로 플라즈마 밀도를 제어하기 위해서 edge ring 혹은 confinement ring 등을 써서 플라즈마 확산을 줄이고 있습니다.'
부분에 대해 질문드립니다.
→ edge ring 혹은 confinement ring을 통해 "플라즈마 확산을 줄여" 플라즈마 균일하게 밀도를 제어한다는 말씀이신데,

 

두번째 문단 '가운데 밀도는 비교적 높고 가장자리로 가면서 밀도는 떨어지게 됩니다.'
→ 가장자리로 갈수록 플라즈마 밀도가 떨어지는데,
"플라즈마 확산을 늘려야" 플라즈마 밀도를 균일하게 제어할 수 있는 것이라 생각해 이에 대해 질문드리고 싶습니다.


2. Edge Ring이 플라즈마 밀도의 균일성을 높이는 원리를 설명해주실 수 있을까요?

 

 

항상 이 곳에서 많은 도움을 받고, 공부하고 있습니다.

 

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76692
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68681
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92218
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 607
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 314
705 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 999
704 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 584
703 self bias [1] 526
702 Self bias 내용 질문입니다. [1] 805
701 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 697
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 612
699 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1162
698 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 363
697 ICP lower power 와 RF bias [1] 1429
696 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 573
695 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 170
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 864
693 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 605
692 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 607
691 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28713
690 plasma modeling 관련 질문 [1] 386
689 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] 712
688 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 734
쓰기
태그

Boards

XE Login