안녕하세요.

 

실제 양산에서 150mm  200mm 300mm 정전척 마다 chucking을 위해 인가 되는 voltage 값이 얼마 정도 되는지 궁금합니다.

 

그리고 chucking voltage가 너무 크면 생기는 문제와 그 maximum 값을 정하는 지표가 따로 있을까요?

 

너무 궁금해서 논문도 찾아보고 그러는데 오픈 되어있는 정보가 너무 없는 것 같아서 답답하네요..

 

도움을 부탁드립니다...

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76897
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20292
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57209
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68761
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92719
719 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 238
718 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 675
717 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 835
716 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1457
715 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 286
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 451
713 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 363
712 corona model에 대한 질문입니다. [1] 171
711 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 217
710 plasma 공정 중 색변화 [1] 646
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 447
708 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 410
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 626
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 324
705 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1057
704 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 609
703 self bias [1] 546
702 Self bias 내용 질문입니다. [1] 852
» 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 727
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 627

Boards


XE Login