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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
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434 |
glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압
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433 |
플라즈마 측정기
[1] | 20852 |
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432 |
플라즈마란?
| 20735 |
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431 |
전자파 누설에 관해서 질문드립니다.
[1]  | 20675 |
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430 |
스퍼터링시 시편두께와 박막두께
[1] | 20655 |
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429 |
대기압플라즈마 진단
| 20598 |
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428 |
플라즈마 쉬스
| 20523 |
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427 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
| 20520 |
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426 |
IEDF EQP에 대한 답변
| 20502 |
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425 |
UBM 스퍼터링 장비로...
[1] | 20454 |
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424 |
plasma와 arc의 차이는?
| 20400 |
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423 |
plasma cleanning에 관하여....
| 20393 |
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422 |
교재구입
| 20371 |
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421 |
wafer 전하 소거: 경험 있습니다.
| 20210 |
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420 |
Lissajous figure에 대하여..
| 20140 |
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419 |
Xe 기체를 사용한 플라즈마 응용
| 20100 |
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418 |
Breakdown에 대해
| 20085 |
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417 |
CCP 에서 Area effect(면적) ?
| 20084 |
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416 |
F/S (Faraday Shield)
| 20060 |
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415 |
ccp-icp
| 20027 |
