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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[332]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [플라즈마 및 반응기 임피던스]
[1] | 23259 |
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752 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [Ambipolar diffusion, Floating potential]
[2] | 23104 |
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751 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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750 |
[질문] Plasma density 측정 방법 [Plasma property와 sputtering]
[1] | 22953 |
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749 |
pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련 [Pulse plasma와 trigger-in]
[1] | 22905 |
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748 |
Peak RF Voltage의 의미
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747 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성]
[3] | 22821 |
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746 |
Dry Etcher 에 대한 교재 [플라즈마 식각 기술]
[1] | 22810 |
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745 |
질문있습니다 교수님 [Deposition]
[1] | 22710 |
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744 |
Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown]
[2] | 22543 |
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743 |
플라즈마의 발생과 ICP
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742 |
플라즈마내의 전자 속도 [Self bias]
[1] | 22243 |
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741 |
플라즈마 코팅 관하여 [PECVD와 화학물 코팅]
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740 |
플라즈마 온도 질문+충돌 단면적 [전자의 에너지에 따른 충돌반응]
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739 |
펄스바이어스 스퍼터링 답변
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738 |
스퍼터링시 시편 두께와 박막두께 [박막의 하전량 변화]
[1] | 22035 |
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737 |
ccp-icp
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736 |
glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압
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735 |
F/S (Faraday Shield)
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734 |
manetically enhanced plasmas
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