안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 103234
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24701
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61501
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73514
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105927
753 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [플라즈마 및 반응기 임피던스] [1] 23265
752 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [Ambipolar diffusion, Floating potential] [2] 23104
751 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 23084
750 [질문] Plasma density 측정 방법 [Plasma property와 sputtering] [1] 22954
749 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련 [Pulse plasma와 trigger-in] [1] 22906
748 Peak RF Voltage의 의미 22856
747 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성] [3] 22823
746 Dry Etcher 에 대한 교재 [플라즈마 식각 기술] [1] 22811
745 질문있습니다 교수님 [Deposition] [1] 22710
744 Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown] [2] 22545
743 플라즈마의 발생과 ICP 22335
742 플라즈마내의 전자 속도 [Self bias] [1] 22249
741 플라즈마 코팅 관하여 [PECVD와 화학물 코팅] 22220
740 플라즈마 온도 질문+충돌 단면적 [전자의 에너지에 따른 충돌반응] 22144
739 펄스바이어스 스퍼터링 답변 22085
738 스퍼터링시 시편 두께와 박막두께 [박막의 하전량 변화] [1] 22041
737 ccp-icp 21975
736 glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 21933
735 F/S (Faraday Shield) file 21854
734 manetically enhanced plasmas 21774

Boards


XE Login