번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [324] 90819
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 23317
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 59990
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71811
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 100845
114 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [Standing wave 및 플라즈마 밀도 분포] [1] 4030
113 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [하전에 의한 전기장 형성 및 방전 시간] [1] 3996
112 Plasma 표면 개질에 대해 질문드립니다. [O2 플라즈마와 Ar 플라즈마] [1] 3948
111 Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련 [Sheath 전위 형성] [3] 3578
110 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [Flow rate와 moral ratio, resident time] [1] 3562
109 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [DC 글로우 방전 및 Breakdown] [1] 3455
108 Plasma etcher particle 원인 [Particle issue와 wafer의 sheath] [1] 3434
107 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [표면 전위 생성 및 방전] [3] 3312
106 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Depostion Rate 감소 현상 문의 [전자의 에너지와 중성입자와의 충돌] [1] 3159
105 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 3129
104 [RIE] reactice, non-reactice ion의 역할 [Dissociation과 Ar plasma] [1] 3040
103 RIE에 관한 질문이 있습니다. [Sheath 이온 거동 및 bias power] [1] 2985
102 PR wafer seasoning [Particle balance, seasoning] [1] 2863
101 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [Polymer coating 식각] [1] 2842
100 DRY Etcher Alarm : He Flow 관점 문의 드립니다. [O ring 결합부 근처 leak detect] [1] 2761
99 산소 양이온의 금속 전극 충돌 현상 [플라즈마 표면 반응] [1] 2748
98 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [Ionization collision 및 Effective ionization energy] [1] 2744
97 Dry etch 할 때 센터와 사이드 etch rate [Plasma diffusion과 distribution] [1] 2690
96 doping type에 따른 ER 차이 [MD 시뮬레이션 연구] [1] 2633
95 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [Sputter와 sheath, flux] [1] 2612

Boards


XE Login