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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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반사파와 유,무효전력 관련 질문 [플라즈마 생성과 가열]
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GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문
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730 |
N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [질소 플라즈마]
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Plasma 표면 개질에 대해 질문드립니다. [O2 플라즈마와 Ar 플라즈마]
[1] | 4087 |
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728 |
PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의 드립니다. [플라즈마 분포와 확산]
[1] | 712 |
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Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [Sheath impedance]
[1] | 859 |
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726 |
chamber에 인가되는 forward power 관련 문의 [송전선로 모델 및 전원의 특성]
[1] | 505 |
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725 |
반도체 METAL ETCH시 CH4 GAS의 역할 [플라즈마 식각기술]
[1] | 1143 |
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724 |
Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [임피던스 매칭]
[1] | 1115 |
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애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing]
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화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마]
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721 |
Lxcat dataset에 따른 Plasma discharge에 대한 질문입니다. [CX 데이터]
[1] | 304 |
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플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [공정 조절과 CF4 계열 플라즈마]
[1] | 611 |
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Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막]
[1] | 418 |
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718 |
[재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술]
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ICP VIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [Plasma breakdown 및 생성]
[1] | 1409 |
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716 |
Ashing 공정에 필요한 O2plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전자 충돌 이온화 반응 해리 반응 흡착 반응]
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715 |
메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마]
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안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [플라즈마 이온화 및 해리 반응, 반응기 벽면 세정]
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RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델]
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